薄膜电路基板的周边曝光装置

摘要

促使薄膜周边部虽有弯翘或皱纹、亦能在搬运薄膜同时、以良好精确度予以曝光薄膜周边部。藉由发光部4a及聚光部4b所构成光感测器4予以检测TAB磁带TP上之铜箔边缘、并移动滑动台5及投影透镜单元2促使聚光部4b之聚光量呈一定、而将紫外光予以聚光于TAB磁带TP之铜箔周边部以曝光该周边部。投影透镜单元2乃设有喷嘴9、且自该喷嘴9将空气吹向TAB磁带TP之进行周边曝光之领域、藉空气压力予以吹押于载台3表面。藉此、虽TAB磁带周边部有弯翘或有皱纹、亦能促使TAB磁带周边部呈平面、可避免掩模之周缘影像模糊以进行精确度良好之曝光。

主权项

1.一种薄膜电路基板的周边曝光装置、系将薄膜电路基板搬运于所定方向同时、藉对该薄膜电路基板周边部之抗蚀剂予以照射光照射手段之曝露光、而曝光上述周边部之抗蚀剂、其特征则在设有:将发光部发出之感测光由聚光部加以聚光之光感测器所构成边缘检测手段、与藉该边缘检测手段之输出、促使上述曝露光照射领域及上述薄膜电路基板相对性移动、并控制曝露光照射于上述薄膜电路基板周边部之控制手段、与在上述光照射手段对上述周边部进行照射曝露光时、将气体喷吹于曝露光所照射上述周边部之气体喷出手段、以及位于被喷吹气体之上述周边部背面侧、可使上述感测光透过或予以反射之载台。图式简单说明:图1为本发明第一实施例之周边曝光装置构成显示图(1)。图2为本发明第一实施例之周边曝光装置构成显示图(2)。图3为本发明第一实施例之载台所设石英板显示图。图4为本发明第二实施例之周边曝光装置构成显示图。图5为在薄膜电路基板之一之TAB磁带一部分及铜箔上涂敷抗蚀剂之状态显示图。图6为习知周边曝光装置之构成显示图(1)。图7为习知周边曝光装置之构成显示图(2)。图8为TAB磁带周边部发生弯翘之状态显示图。