发明名称 内置保护P型高压金属氧化物半导体管
摘要 本发明公开了一种内置保护P型高压金属氧化物半导体管,包括P型衬底,在P型衬底的上方设有N型外延接触孔、源、漏、场氧化层和多晶栅,在多晶栅的下方有栅氧化层,在N型外延接触孔、源、漏、场氧化层及多晶栅的上方有氧化层,在漏和场氧化层的下方设有P型漂移区,在N型外延接触孔及源上设有铝引线、在多晶栅和漏上分别设有铝引线,在N型外延接触孔、源及P型漂移区与P型衬底之间设有N型杂质区,位于多晶栅的末端下方并在场氧化层的下面设有N型保护阱且该N型保护阱位于P型漂移区内。本发明引入了N型保护阱,N型保护阱可以增大多晶栅末端的电场曲率半径、降低由于多晶栅末端电位突变引起的电场聚集,从而提高了器件击穿电压。
申请公布号 CN1424768A 申请公布日期 2003.06.18
申请号 CN03112625.1 申请日期 2003.01.08
申请人 东南大学 发明人 时龙兴;孙伟锋;易扬波;陆生礼
分类号 H01L29/78 主分类号 H01L29/78
代理机构 南京经纬专利代理有限责任公司 代理人 王之梓
主权项 1、一种内置保护P型高压金属氧化物半导体管,包括P型衬底(1),在P型衬底(1)的上方设有N型外延接触孔(2)、源(3)、漏(4)、场氧化层(5)和多晶栅(6),在多晶栅(6)的下方有栅氧化层(7),在N型外延接触孔(2)、源(3)、漏(4)、场氧化层(5)及多晶栅(6)的上方有氧化层(8),在漏(4)和场氧化层(5)的下方设有P型漂移区(12),在N型外延接触孔(2)及源(3)上设有铝引线(9)、在多晶栅(6)和漏(4)上分别设有铝引线(10、11),其特征在于在N型外延接触孔(2)、源(3)及P型漂移区(12)与P型衬底(1)之间设有N型杂质区,位于多晶栅(6)的末端下方并在场氧化层(5)的下面设有N型保护阱(13)且该N型保护阱(13)位于P型漂移区(12)内。
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