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发明名称 Photoresist composition
摘要
申请公布号 EP0945764(B1) 申请公布日期 2003.06.18
申请号 EP19990106059 申请日期 1999.03.25
申请人 SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED 发明人 OCHIAI, KOSHIRO;FUKUI, NOBUHITO
分类号 H01L21/027;C08F8/14;C08F212/14;G03F7/027;G03F7/033;G03F7/039;(IPC1-7):G03F7/039;C08F8/00;G03F7/004 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
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