Verfahren zur Reinigung eines CVD-Reaktors,申请号DE20011002745-传众专利搜索

发明名称	Verfahren zur Reinigung eines CVD-Reaktors
摘要
申请公布号	DE10102745(C2)	申请公布日期	2003.06.12
申请号	DE20011002745	申请日期	2001.01.22
申请人	INFINEON TECHNOLOGIES AG	发明人	SCHULZE-ICKING, GEORG;STEINHOEGL, WERNER;KERSCH, ALFRED
分类号	C23C16/44;(IPC1-7):C23F4/00;C23C16/00	主分类号	C23C16/44
代理机构		代理人
主权项
地址