| 发明名称 | 化学增强光刻胶及一种光刻胶合成物 | ||
| 摘要 | 本发明涉及用于化学增强光刻胶的聚合物及其使用该聚合物的组合物。本发明提供化学式(1)表示的聚合物和用于深紫外光含有该聚合物的化学光刻胶组合物,包括由化学式(1)表示的聚合物的化学增强光刻胶组合物在微光刻工艺中对单波长响应,可以在衬底上制作高分辨率的精密图案。 | ||
| 申请公布号 | CN1423760A | 申请公布日期 | 2003.06.11 |
| 申请号 | CN01807989.X | 申请日期 | 2001.04.13 |
| 申请人 | 东进瑟弥侃株式会社 | 发明人 | 金德倍;金炫辰;崔容准;郑允植 |
| 分类号 | G03F7/039 | 主分类号 | G03F7/039 |
| 代理机构 | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 刘国平 |
| 主权项 | 1、一种用于化学增强光刻胶的聚合物，它用下列化学式1表示：[化学式1]<img file="A0180798900021.GIF" wi="854" he="520" />其中R<sub>1</sub>是氢或者甲基，R<sub>2</sub>是氢或者CH<sub>2</sub>CH<sub>2</sub>COOC(CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>，R<sub>3</sub>是氯、溴、羟基、氰基、叔-丁氧基、CH<sub>2</sub>NH、CONH<sub>2</sub>、CH＝NH、CH(OH)NH<sub>2</sub>或者C(OH)＝NHx+y+z＝1，x取自0.1至0.9，y取自0.01至0.89，z取自0.01至0.89；n是1或者2，当n是2的时候，两个R<sub>2</sub>一样。 | ||
| 地址 | 韩国仁川市西区 | ||