| 发明名称 | 摄影元件、化合物和方法 | ||
| 摘要 | 公开了一种摄影元件,包含光敏性卤化银乳剂层,其具有与其缔合的式(I)的青色“NB成色剂”:其中:术语“NB成色剂”表示式(I)的成色剂,其形成的染料的用旋涂的左带宽(LBW)比溶液形式的相同染料至少小5nm；X选自O、NR*或S,并且R*是烷基、碳环或杂环基团；L是连接基团,且a为0或1；Y是H或解偶联基团；Z*是取代基,且p为0－2；和R<SUP>1</SUP>和R<SUP>2</SUP>是独立选择的H或取代基；前提是:在R<SUP>1</SUP>、R<SUP>2</SUP>、R*、L和所有Z*中的脂族碳原子总数至少为8。 | ||
| 申请公布号 | CN1423166A | 申请公布日期 | 2003.06.11 |
| 申请号 | CN02154048.9 | 申请日期 | 2002.12.06 |
| 申请人 | 伊斯曼柯达公司 | 发明人 | W·J·贝利;G·M·鲁索 |
| 分类号 | G03C7/38;G03C7/26;G03C1/46 | 主分类号 | G03C7/38 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 王景朝;王其灏 |
| 主权项 | 1.一种摄影元件，包含光敏性卤化银乳剂层，其具有与其缔合的式(I)的青色“NB成色剂”：<img file="A0215404800021.GIF" wi="924" he="380" />其中：术语“NB成色剂”表示式(I)的成色剂，其形成的染料的用旋涂的左带宽(LBW)比溶液形式的相同染料至少小5nm；X选自O、NR*或S，并且R*是烷基、碳环或杂环基团；L是连接基团，且a为0或1；Y是H或解偶联基团；Z*是取代基，且p为0-2；和R<sup>1</sup>和R<sup>2</sup>是独立选择的H或取代基；前提是：在R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>、R*、L和所有Z*中的脂族碳原子总数至少为8。 | ||
| 地址 | 美国纽约州 | ||