发明名称 Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung eines Plasmareaktors
摘要
申请公布号 DE69623731(T2) 申请公布日期 2003.06.05
申请号 DE1996623731T 申请日期 1996.12.03
申请人 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 YE, YAN;HANAWA, HIROJI;MA, DIANA XIAOBING;YIN, GERALD ZHEYAO
分类号 H05H1/46;H01J37/32;H01L21/00;H01L21/302;H01L21/304;H01L21/3065;(IPC1-7):H01J37/32 主分类号 H05H1/46
代理机构 代理人
主权项
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