发明名称 INSULATION TRENCH FOR AN INTEGRATED CIRCUIT AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF
摘要 <p>Die Erfindung bezieht sich auf einen Isolationsgraben (1) für eine integrierte Schaltung, der in einem Substrat (2) gebildet und mit einem Isolationsmedium (7) mit einer geringen relativen Dielektrizitätskonstante gefüllt ist. Oberseitig ist der Isolationsgraben (1) mit einer Abdeckung (12) derart verschlossen, dass das Isolationsmedium (7) vollständig eingekapselt ist. Weiterhin bezieht sich die Erfindung auf einen flaschenförmigen Isolationsgraben sowie ein Herstellungsverfahren für einen Isolationsgraben.</p>
申请公布号 WO2003046977(A2) 申请公布日期 2003.06.05
申请号 EP2002012838 申请日期 2002.11.15
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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