| 发明名称 | 掩膜母版清洁法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及制作掩膜版过程中母版的清洁技术，清洁液由下列组分配比而成：双氧水1份，浓硫酸0.5－3份，每次需要清洁母版时，先用镊子将待清洁的母版放到清洁液中清洗，再用镊子夹出，放置于板架上，再用去离子水冲洗多次，自然风干即可，经过此法清洗的母版表面非常干净，无异物、无油渍、无灰尘、无水汽，可保证一次性清洗干净，而且清洁液可多次重复使用，使用周期为一个月，是一种省时、省力、高效的清洁掩膜母版的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN1421285A | 申请公布日期 | 2003.06.04 |
| 申请号 | CN02145560.0 | 申请日期 | 2002.12.30 |
| 申请人 | 中国航天科技集团公司第九研究院七七一研究所 | 发明人 | 李铁军;宁晓梅;于瑞娟;杜焕玲;房林平 |
| 分类号 | B08B11/00 | 主分类号 | B08B11/00 |
| 代理机构 | 西安文盛专利代理有限公司 | 代理人 | 何叶 |
| 主权项 | 1一种掩膜母板清洁法，其特征在于清洁液由下列组分配比而成： 双氧水 1份 浓硫酸 0.5-3份 | ||
| 地址 | 710054陕西省西安市太乙路8号 | ||