发明名称 |
回归式反光膜表面涂层材料及其生产工艺 |
摘要 |
一种回归式反光膜表面涂层材料,其组成按重量比为丙烯酸聚氨基甲酸酯预聚物20-50%、纳米二氧化硅1-30%、硅烷偶联剂1-5%、光引发剂1-8%、流平剂0.1-0.8%和阻聚剂0.01-0.1%,其余为丙烯酸酯活性稀释剂。其生产工艺为:1.纳米二氧化硅分散液制备,2.涂料的制备,3.过滤和分装。该涂料具有优良的透光性,耐水性、耐用污性和耐用候性。将本发明的涂料涂复在回归式反光膜面层上,经紫外光固化后,即成反光膜的新表面层。 |
申请公布号 |
CN1421500A |
申请公布日期 |
2003.06.04 |
申请号 |
CN01132354.X |
申请日期 |
2001.11.29 |
申请人 |
上海先鹏实业有限公司 |
发明人 |
李鸿图 |
分类号 |
C09D175/14 |
主分类号 |
C09D175/14 |
代理机构 |
上海智力专利事务所 |
代理人 |
李琳 |
主权项 |
1.一种回归式反光膜表面涂层材料,其成分包括丙烯酸聚氨基甲酸酯预聚物、丙烯酸酯活性稀释剂、纳米二氧化硅、硅烷偶联剂、光引发剂、流平剂和阻聚剂;其按重量比的组成为:丙烯酸聚氨基甲酸酯预聚物20-50%、纳米二氧化硅1-30%、硅烷偶联剂1-5%、光引发剂1-8%、流平剂0.1-0.8%、阻聚剂0.01-0.1%其余为丙烯酸酯活性稀释剂。 |
地址 |
200120上海市浦东新区陆家嘴东路161号3208室 |