发明名称 基材加工装置
摘要 一种基材加工装置包含一用来开启与复原一晶圆载具外盖之晶圆盒开启器,该晶圆盒开启器包含一围墙,而该围墙具有三个以上用来支撑晶圆载具之外盖之吸附元件;为了要使由连接吸附元件线段所形成之一最大多边形的中心点实质上与该外盖的中心点重合,需要有两条以上之直线以连接所有吸附元件。
申请公布号 TW535221 申请公布日期 2003.06.01
申请号 TW091103679 申请日期 2002.02.27
申请人 日立国际电气股份有限公司 发明人 中岛孝宜;松永建久
分类号 H01L21/205 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路三段二四八号七楼;陈文郎 台北市松山区南京东路三段二四八号七楼
主权项 1.一种基材加工装置,包括:一晶圆盒开启器,其包含一围墙,该晶圆盒开启器系用来开启与复原一晶圆载具之外盖,其中该围墙具有三个以上吸附元件,用来支撑该晶圆载具之外盖。2.如申请专利范围第1项之基材加工装置,其中该吸附元件中心点之连接线段形成一多边形。3.如申请专利范围第1项之基材加工装置,其中由连接吸附元件中心点线段所形成之一最大多边形的中心点,实质上与该外盖之中心点重合。4.如申请专利范围第2项之基材加工装置,其中由连接吸附元件中心点线段所形成之一最大多边形的中心点,实质上与该外盖的中心点重合。5.如申请专利范围第1项之基材加工装置,其中该吸附元件对于通过外盖中心点之直线系实质上对称者。6.如申请专利范围第2项之基材加工装置,其中该吸附元件对于通过外盖中心点之直线系实质上对称者。图式简单说明:第1图为本发明之批次型CVD装置之示意立体图。第2图为本发明之晶圆盒开启器之前视图。第3图为本发明之具有配置于晶圆装载埠之晶圆盒开启器之立体图。第4图为本发明之晶圆盒开启器去除一些零件后之示意后视立体图。第5图为图4中被去除掉之零件V的立体图。第6A图为本发明配合杆臂之缩回机构之上视图。第6B图为本发明配合在操作位置之杆臂之机构之上视图。第7图为本发明之涵盖晶圆盒开启器后方外盖之立体图。第8A图与8B分别为本发明之终端单元之上视与侧视图。第9A图说明本发明第三实施例之具有三个吸附元件之围墙。第9B图为本发明第三实施例之具有五个吸附元件之围墙。
地址 日本