| 主权项 |
1.一种有机电致发光显示面板之制造方法,其系包括有以下步骤:提供一大致上透明基底;在该透明基底上形成复数条大致上平行排列之第一显示电极;在具该等第一显示电极之该透明基底上形成一非感光绝缘层;对该非感光绝缘层进行预烘烤及烘烤;在该非感光绝缘层上形成一感光性绝缘材料层,并对其进行预烘烤;对该感光性绝缘材料层进行微影蚀刻,以界定出垂直于该等第一显示电极之形状,并接着对其进行曝光后烘烤;将该基底、该等第一显示电极、该非感光绝缘层、该感光性绝缘材料层所形成的一整个系统浸入显影液中,用以对该感光绝缘材料层进行显影,并对非感光绝缘层进行蚀刻,从而暴露出该等第一显示电极的一部分;对该整个系统进行最终固化程序;在该等第一显示电极被暴露出来的部分上形成一有机发光材料层;以及在该有机发光材料上形成第二显示电极。2.如申请专利范围第1项所述之有机电致发光显示面板之制造方法,其中该非感光绝缘层系为一热交联式聚醯亚胺层。3.如申请专利范围第1项所述之有机电致发光显示面板之制造方法,其中该非感光绝缘层之厚度系介于0.5-2mm。4.如申请专利范围第1项所述之有机电致发光显示面板之制造方法,其中对非感光绝缘层进行预烘烤之温度系介于摄氏50-120度。5.如申请专利范围第1项所述之有机电致发光显示面板之制造方法,其中对非感光绝缘层进行烘烤之温度系介于摄氏120-180度。6.如申请专利范围第1项所述之有机电致发光显示面板之制造方法,其中对非感光绝缘层进行烘烤之时间系介于20分钟至1小时。7.如申请专利范围第1项所述之有机电致发光显示面板之制造方法,其中该感光性绝缘层之厚度系介于3-5mm。8.如申请专利范围第1项所述之有机电致发光显示面板之制造方法,其中该感光性绝缘材料层之曝光系为以30-80mJ/cm2所进行者。9.如申请专利范围第1项所述之有机电致发光显示面板之制造方法,其中该感光性绝缘材料层之曝光后烘烤系为以摄氏90至150度之温度所进行者。10.如申请专利范围第1项所述之有机电致发光显示面板之制造方法,其中该感光性绝缘材料层之曝光后烘烤系持续30-120秒。11.如申请专利范围第1项所述之有机电致发光显示面板之制造方法,其中显影液系为2.38%之TMAH。12.如申请专利范围第1项所述之有机电致发光显示面板之制造方法,其中显影步骤所持续之时间系为50-100秒。13.如申请专利范围第1项所述之有机电致发光显示面板之制造方法,其中最终固化系以摄氏200-350度之温度所进行。14.如申请专利范围第1项所述之有机电致发光显示面板之制造方法,其中最终固化步骤之持续时间系介于30分钟至2小时。15.一种有机电致发光显示面板之制造方法,其系包括有以下步骤:提供一大致上透明基底;在该透明基底上形成复数条大致上平行排列之第一显示电极;在具该等第一显示电极之该透明基底上形成第一感光性绝缘层;在该第一感光性绝缘层上形成第二感光性绝缘层;对该第一与第二感光性绝缘层进行微影蚀刻,以界定出垂直于该等第一显示电极之形状;将该基底、该等第一显示电极、该第一感光性绝缘层、该第二感光性绝缘层所形成的一整个系统浸入显影液中,用以对该第一与第二感光性绝缘层进行显影,从而暴露出该等第一显示电极的一部分;在该等第一显示电极被暴露出来的部分上形成一有机发光材料层;以及在该有机发光材料上形成第二显示电极。16.如申请专利范围第15项所述之有机电致发光显示面板之制造方法,其中该第一感光性绝缘层之感光性系较该第二感光性绝缘层之感光性为佳。17.一种有机电致发光显示面板之制造方法,其系包括有以下步骤:提供一大致上透明基底;在该透明基底上形成复数条大致上平行排列之第一显示电极;在具该等第一显示电极之该透明基底上形成一非感光绝缘层;在该非感光绝缘层上形成一感光性绝缘材料层;对该感光性绝缘材料层进行微影;对该感光绝缘材料层进行显影,并对该非感光绝缘层进行蚀刻,形成复数条大致上与该第一显示电极垂直的感光绝缘材料层与非感光绝缘层,暴露出该等第一显示电极的一部分;在该等第一显示电极被暴露出来的部分上形成一有机发光材料层;以及在该有机发光材料层上形成第二显示电极。18.如申请专利范围第17项所述之有机电致发光显示面板之制造方法,在形成该非感光绝缘层后更包括一b-烘烤的步骤,用以使该非感光绝缘层部分交联。19.如申请专利范围第17项所述之有机电致发光显示面板之制造方法,其中该感光性绝缘材料层系被显影成具有一正梯形之形状。20.如申请专利范围第17项所述之有机电致发光显示面板之制造方法,其中该非感光绝缘层系被显影成具有一倒梯形之形状。21.如申请专利范围第17项所述之有机电致发光显示面板之制造方法,其中该感光性绝缘材料层之梯形长边系不短于该非感光绝缘层之梯形长边。22.如申请专利范围第17项所述之有机电致发光显示面板之制造方法,在显影之后更包括对该面板进行一最终固化程序。23.如申请专利范围第17项所述之有机电致发光显示面板之制造方法,对该感光绝缘材料进行显影,并对该非感光绝缘层进行蚀刻系利用显影液进行。24.一种有机电致发光显示面板之制造方法,其系包括有以下步骤:提供一大致上透明基底;在该透明基底上形成复数条大致上平行排列之第一显示电极;在具该等第一显示电极之该透明基底上形成第一感光性绝缘层;在该第一感光性绝缘层上形成一第二感光性绝缘层;对该第一与第二感光性绝缘层进行微影制程;对该第一与第二感光性绝缘层进行显影,形成复数条大致上与该第一显示电极垂直的第一感光绝缘层与第二感光绝缘层,从而暴露出该等第一显示电极的一部分;在该等第一显示电极被暴露出来的部分上形成一有机发光材料层;以及在该有机发光材料上形成第二显示电极;其中该第一感光性绝缘层与该第二感光性绝缘层具有不同的感光性。25.如申请专利范围第24项所述之有机电致发光显示面板之制造方法,对该第一感光性绝缘层与该第二感光性绝缘层进行显影系利用显影液同时进行。26.如申请专利范围第24项所述之有机电致发光显示面板之制造方法,其中该第一感光性绝缘层之感光性系较该第二感光性绝缘层之感光性为佳。图式简单说明:第1图系为一立体图,其系显示一习知有机电致发光显示器之结构;第2A图至第2F图系显示习知有机电致发光显示器之阴极阻隔层制作流程的示意图;第3A图至第3E图系显示出根据本发明一实施例之有机电致发光显示面板制造方法的示意图;以及第4A图至第4D图系显示出根据本发明另一实施例之有机电致发光显示面板制造方法的示意图。 |
