发明名称 Verfahren zum großflächigen Aufbringen von mechanisch empfindlichen Schichten auf ein Substrat
摘要 Es wird ein Verfahren zum großflächigen Aufbringen von zumindest zwei z. B. elektrolumineszierenden Schichten auf ein Substrat beschrieben. Dabei werden in einem Verfahrensschritt A) auf dem transparenten Substrat Abstandshalter (5) so strukturiert, daß sie beim Aufbringen einer zweiten funktionellen Schicht (11) einen Kontakt zwischen einer bereits auf dem Substrat befindlichen ersten funktionellen Schicht (10) und einem für den Übertrag der funktionellen Schichten auf das Substrat verantwortlichen Teil einer Druckmaschine vermeiden. In zwei weiteren Verfahrensschritten B) und C) werden dabei die erste funktionelle Schicht (10) und die zweite funktionelle Schicht (15) großflächig, zum Beispiel durch großflächige Standarddruckverfahren, aufgebracht.
申请公布号 DE10152920(A1) 申请公布日期 2003.05.28
申请号 DE20011052920 申请日期 2001.10.26
申请人 OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH 发明人 WITTMANN, GEORG;HEUSER, KARSTEN;BIRNSTOCK, JAN;STOESEL, MATTHIAS;BLAESSING, JOERG
分类号 H05B33/10;B05D1/28;B05D5/06;H01L27/32;H01L51/40;H01L51/50;H01L51/56;(IPC1-7):H01L51/40;B41M1/26 主分类号 H05B33/10
代理机构 代理人
主权项
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