| 发明名称 |
Method and apparatus for reducing PFC emission during semiconductor manufacture |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB2373459(B) |
申请公布日期 |
2003.05.28 |
| 申请号 |
GB20010022615 |
申请日期 |
2001.09.19 |
| 申请人 |
* SAMSUNG ELECTRONICS CO. LTD. |
发明人 |
SEUNG-KI * CHAE;SANG-GON * LEE;SANG-HYUK * CHUNG;SEONG-JIN * HEO |
| 分类号 |
B01D53/68;B01D53/34;B01D53/70;B01D53/77;C23C16/44;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):B01D47/00 |
主分类号 |
B01D53/68 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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