发明名称 | 投影管用高亮度、高分辨率双束电子枪 | ||
摘要 | 一种投影管用双束电子枪,由阴极组件、调制极、聚焦极、阳极依次排列,其特征在于,在共用单一阴极之后,设置了两个调制极G1,构成两组阴极透镜;在聚焦极G2与第一阳极G3之间设置校正电极G2′,形成预聚焦透镜与折射棱镜的组合透镜;双电子束共用由第一阳极G3、聚焦极G4、及阳极G5组成的主透镜;调节各电极电位,使电子束在电子枪中交叉于规定的一点,该电子枪提高束流值,从而获得高亮度,而且保持较小的束点间距,解决了通常投影管中高亮度、高分辨率之间的矛盾。 | ||
申请公布号 | CN1110062C | 申请公布日期 | 2003.05.28 |
申请号 | CN99105544.6 | 申请日期 | 1999.04.14 |
申请人 | 北京真美视听技术有限责任公司 | 发明人 | 朱锦林;肖顺禄;林岱恩 |
分类号 | H01J29/48 | 主分类号 | H01J29/48 |
代理机构 | 信息产业部电子专利中心 | 代理人 | 李勤媛 |
主权项 | 1.一种投影管用双束电子枪,由阴极组件、调制极、聚焦极、阳极依次排列,其特征在于,在共用单一阴极之后,设置了两个调制极(G1),构成两组阴极透镜;在聚焦极(G2)与第一阳极(G3)之间设置校正电极(G2′),形成预聚焦透镜与折射棱镜的组合透镜;双电子束共用由第一阳极(G3)、聚焦极(G4)、及阳极(G5)组成的主透镜;调节各电极电位,使电子束在电子枪中交叉于规定的一点,依照所调电位,这一点可以调节到偏转中心附近,构成了双电位聚焦电子枪结构;也可调节到单电位聚焦场的鞍点附近,构成了单电位聚焦电子枪结构。 | ||
地址 | 100016北京市酒仙桥路13号 |