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发明名称 Plasma etching method
摘要
申请公布号 EP0726596(B1) 申请公布日期 2003.05.28
申请号 EP19960101751 申请日期 1996.02.07
申请人 TOKYO ELECTRON LIMITED 发明人 INAZAWA, KOICHIRO;OKAMOTO, SHIN;HAYASHI, HISATAKA;MATSUSHITA, TAKAYA
分类号 C23F4/00;H05H1/46;C30B33/12;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/311;(IPC1-7):H01L21/311;H01L21/00 主分类号 C23F4/00
代理机构 代理人
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