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发明名称
Use of pulsed voltage in a plasma reactor
摘要
申请公布号
GB2382459(A)
申请公布日期
2003.05.28
申请号
GB20030001969
申请日期
2001.08.17
申请人
* MICRON TECHNOLOGY INC
发明人
KEVIN G * DONOHOE
分类号
H05H1/46;H01J37/32;H01L21/3065;(IPC1-7):H01J37/32
主分类号
H05H1/46
代理机构
代理人
主权项
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