发明名称 |
低回损蚀刻衍射光栅波分复用器 |
摘要 |
本发明公开了一种低回损蚀刻衍射光栅波分复用器。它包括输入波导,输出波导,蚀刻光栅,自由传播区域。输入波导和输出波导的入射点和出射点位于同一半径的圆上,而蚀刻光栅位于以2倍此圆半径为半径,且与此圆相内切的另一个圆上,蚀刻光栅的中心在两圆的切点上。蚀刻光栅的每一个反射齿面的朝向都由入射方向和出射方向确定,使入射光反射到同一个输出无像差点位置。输入位置和输出无像差点位置满足一个精确的关系,可以保证输入波导所在位置接受到最小的光回损。本发明可以更好的应用在波分复用系统中,它在最大限度提高回损性能的同时,与普通的减小回损的方法(如使用光隔离器)相比,没有附加任何的几何结构,制作工艺也没有改变,实现简单,成本不增加。 |
申请公布号 |
CN1420374A |
申请公布日期 |
2003.05.28 |
申请号 |
CN02159350.7 |
申请日期 |
2002.12.23 |
申请人 |
浙江大学 |
发明人 |
盛钟延;何赛灵 |
分类号 |
G02B6/34;G02B6/124;H04J14/02 |
主分类号 |
G02B6/34 |
代理机构 |
杭州求是专利事务所有限公司 |
代理人 |
林怀禹 |
主权项 |
1.一种低回损蚀刻衍射光栅波分复用器,包括输入波导(1),输出波导(2),蚀刻光栅(3),自由传播区域(4);其特征在于输入波导(1)和输出波导(2)的入射点和出射点位于同一半径的圆(A)上,而蚀刻光栅(3)位于以2倍圆(A)半径为半径,且与圆(A)相内切的圆(B)上,蚀刻光栅的中心在两圆的切点上;蚀刻光栅的每一个反射齿面(7)的朝向都由入射方向和出射方向确定,使入射光反射到同一个输出无像差点位置(6)。 |
地址 |
310027浙江省杭州市西湖区玉古路20号 |