发明名称 加热装置
摘要 本发明之加热装置,系于上下并排的加热器之间利用放射热对加热对象进行加热时,抑制由加热对象上方之加热并精确控制加热温度,以期实现加热器的低成本化、薄型化及省能化。其具备沿着上下方相互间隔并排的数个平板状加热器3,各加热器3具有发热体10a、覆于该发热体10a顶面的上盖10b,及覆于该发热体10a底面的下盖10c,利用由各加热器3的顶部及底部放射的热,对配置于相邻接的前述加热器3之间的加热对象4进行加热。并使下盖10c的放射率小于上盖10b的放射率,藉此抑制各加热器3中每单位时间内来自底部的热放射量,使其少于来自顶部的热放射量。
申请公布号 TW533301 申请公布日期 2003.05.21
申请号 TW091110224 申请日期 2002.05.16
申请人 光洋热系统股份有限公司 发明人 长岛 靖
分类号 F27D23/00 主分类号 F27D23/00
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种加热装置,其特征在于:具有沿着上下方相互间隔并排的数个平板状加热器;各加热器具有发热体、覆于该发热体顶部的上盖,及覆于该发热体底部的下盖;且能够利用由各加热器的顶面及底面放射的热,对配置于相邻接的前述加热器之间的加热对象进行加热者;而藉由使前述下盖的放射率小于前述上盖的放射率,来抑制各加热器中每单位时间来自底部的热放射量,使其少于顶部的热放射量。2.如申请专利范围第1项之加热装置,其中藉由前述下盖的表面性状与前述上盖的表面性状之差异,以使前述下盖的放射率小于前述上盖的放射率。3.如申请专利范围第1或2项之加热装置,其中藉由使前述下盖的热传导率小于前述上盖的热传导率,以抑制各加热器中每单位时间内来自底部的热放射量,使其少于来自顶部的热放射量。4.如申请专利范围第3项之加热装置,其中藉由前述下盖的材质与前述上盖的材质之差异,以使前述下盖的热传导率小于前述上盖的热传导率。5.一种加热装置,其特征在于:具有沿着上下方相互间隔并排的数个平板状加热器;各加热器具有发热体、覆于该发热体顶部的上盖,及覆于该发热体底部的下盖;且能够利用由各加热器的顶面及底面放射的热,对配置于相邻接的前述加热器之间的加热对象进行加热者;而藉由使前述下盖的热传导率小于前述上盖的热传导率,来抑制各加热器中每单位时间来自底部的热放射量,使其少于顶部的热放射量。6.如申请专利范围第5项之加热装置,其中藉由前述下盖的材质与前述上盖的材质之差异,以使前述下盖的热传导率小于前述上盖的热传导率。7.如申请专利范围第1或5项之加热装置,其中前述加热器系呈两端支撑状而藉由炉体予以支撑;而前述下盖的热膨胀率系小于前述上盖的热膨胀率。8.如申请专利范围第1或5项之加热装置,其中于前述下盖的内部形成有空间。9.如申请专利范围第8项之加热装置,其中于前述空间内设有气体导入手段,用以导入低于加热器的设定温度之低温气体;而为使导入该空间内的气体从加热器的中央附近向周边流动,该气体系被导入至加热器的中央附近。10.如申请专利范围第9项之加热装置,其中于各加热器内设有隔墙,以将前述空间分隔为加热器的中央附近之膛室,以及比此中央附近的膛室靠近周边的膛室;该隔墙上设有连络相邻接的膛室之气体流通孔;而藉由前述气体导入手段,将气体导入该中央附近的膛室。图式简单说明:图1为本发明的实施形态之加热装置之侧面图。图2为本发明的实施形态之加热装置之平面图。图3为本发明的实施形态之加热装置中要部之侧剖面图。图4为本发明的实施形态之加热装置中,显示平板状加热器的支撑状态之斜视图。图5为本发明的实施形态之加热装置中要部之平剖面图。
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