| 主权项 |
1.一种辅助离子源(74),其用于具备电浆处理室(16)的电浆处理系统(10),该辅助离子源包含:一讯号产生器(82,96),其用于产生一输出讯号;以及一天线组件(76,90),其位于该处理室(16)附近,由该讯号产生器针对该天线组件所激发的能量使局限于该处理室(16)内的电浆离子化,藉以形成具有大量离子含量的电浆。2.如申请专利范围第1项之辅助离子源(74),其中该天线组件(76,90)之形状大致为平面。3.如申请专利范围第2项之辅助离子源(74),其中该讯号产生器系产生一射频(RF)范围内的输出讯号。4.如申请专利范围第3项之辅助离子源(74),其中该输出讯号约13.56百万赫兹(MHz)。5.如申请专利范围第2项之辅助离子源(74),其中该形状大致为平面的天线组件包括一线圈天线(78)。6.如申请专利范围第2项之辅助离子源(74),其中该形状大致为平面的天线组件包括一平板天线(78)。7.如申请专利范围第2项之辅助离子源(74),其中该形状大致为平面的天线组件系内嵌于一氟化聚合物树脂。8.一种电浆处理系统(10),其包含:第一功率产生器组件(14),其包含一电浆管(32)及一用于将导入该电浆管内之气体离子化之产生器(40);一处理室(16),其用于处理一工件,并连接于该第一功率产生器组件(14);以及一辅助离子源(74),其包含(i)一讯号产生器(82,96),该讯号产生器系用于产生一输出讯号,以及(ii)一天线组件(76,90),该天线组件系位于该处理室(16)附近,由该讯号产生器针对该天线组件所激发的能量使局限于该处理室(16)内的电浆离子化,藉以形成具有大量离子含量的电浆。9.如申请专利范围第8项之电浆处理系统(10),其中该天线组件(76,90)之形状大致为平面。10.如申请专利范围第9项之电浆处理系统(10),其中该讯号产生器系产生一射频(RF)范围内的输出讯号。11.如申请专利范围第10项之电浆处理系统(10),其中该输出讯号约13.56百万赫兹(MHz)。12.如申请专利范围第9项之电浆处理系统(10),其中该形状大致为平面的天线组件包括一线圈天线(78)。13.如申请专利范围第9项之电浆处理系统(10),其中该形状大致为平面的天线组件包括一平板天线(78)。14.如申请专利范围第9项之电浆处理系统(10),其中该形状大致为平面的天线组件系内嵌于一氟化聚合物树脂。15.如申请专利范围第9项之电浆处理系统(10),其中该产生器(40)系为一磁电管。16.如申请专利范围第9项之电浆处理系统(10),其中该产生器(40)系为一射频(RF)电源。图式简单说明:图1a为习知光阻灰化器(具备石英电浆管)之剖面图,其可运用本发明之电浆源及辅助激发器;图1b为习知光阻灰化器(具备蓝宝石电浆管)之剖面图,其可运用本发明之电浆源及辅助激发器;图2为本发明之电浆源及辅助激发器之第一实施例的剖面图,该电浆源及辅助激发器可连接图1a或1b所示之任一光阻灰化器之处理室;图3为图2所示之辅助激发器沿直线3-3之剖面图;图4为本发明之电浆源及辅助激发器之第二实施例的剖面图,该电浆源及辅助激发器可连接图1a或1b所示之任一光阻灰化器之处理室;及图5为图4所示之辅助激发器沿直线5-5之剖面图。 |
