| 发明名称 |
A liquid photo-resist remover composition effective against etching residue without damage to corrodible metal layer and process using the same |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB2354086(B) |
申请公布日期 |
2003.05.21 |
| 申请号 |
GB20000022120 |
申请日期 |
2000.09.08 |
| 申请人 |
* NEC CORPORATION;* TOKYO OHKA KOGYO CO LTD |
发明人 |
HIDEMITSU * AOKI;KENICHI * NAKABEPPU;MASAHITO * TANABE;KAZUMASA * WAKIYA;MASAKAZU * KOBAYASHI |
| 分类号 |
H01L21/027;G03F7/42;H01L21/02;(IPC1-7):G03F7/42 |
主分类号 |
H01L21/027 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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