METODO PARA AUMENTAR EL RENDIMIENTO EN LOS PROCESOS DE DEPOSICION DE FINAS CAPAS SOBRE UN SUBSTRATO.

摘要

Método para aumentar el rendimiento de los procesos de deposición de finas capas sobre un substrato, comprendiendo el contacto de un dispositivo rarefactor en forma activada con la atmósfera de trabajo dentro de una cámara de proceso cuando la suma de presiones parciales de los gases reactivos en la cámara es inferior a aproximadamente 10-3 mbar, y cuando no se está procesando actualmente ningún substrato en fabricación, utilizando los equipos automatizados de manipulación de substratos y los procedimientos empleados en las etapas de fabricación, por lo menos para retirar el dispositivo rarefactor de la cámara de procesamiento mientras ésta última se mantiene a vacío a la presión requerida para dicho proceso de deposición.