发明名称 |
METHOD FOR MAKING A SEMICONDUCTOR PHOTODETECTOR, IN PARTICULAR IN THE LOW-ENERGY UV-X DOMAIN, AND PHOTODETECTOR OBTAINED BY SAID METHOD |
摘要 |
Procédé de fabrication d'un photodétecteur semiconducteur, notamment dans le domaine UV-X de basse énergie, et photodétecteur obtenu par ce procédé. Selo n l'invention, on fabrique un élément de photodétection (22) en matériau semiconducteur photodétecteur, cet élément étant muni d'électrodes (24, 26). Après la fabrication de l'élément de photodétection et sans altérer les électrodes, on enlève une couche superficielle du matériau semiconducteur photodétecteur pour créer une nouvelle couche superficielle ayant les propriétés électriques du volume de ce matériau.
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申请公布号 |
CA2465882(A1) |
申请公布日期 |
2003.05.15 |
申请号 |
CA20022465882 |
申请日期 |
2002.11.04 |
申请人 |
COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE |
发明人 |
FOULON, FRANCOIS;GUIZARD, BENOIT |
分类号 |
H01L;H01L21/00;H01L31/08;H01L31/101;H01L31/115;H01L31/18;(IPC1-7):H01L31/101 |
主分类号 |
H01L |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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