| 摘要 |
<p>Ein Verfahren zum Herstellen eines Meßchips, welches einen dielektrischen Block und eine Dünnfilmschicht auf einer Fläche des dielektrischen Blocks zur Plazierung einer Probe aufweist. Der dielektrische Block wird aus einem Harzmaterial als Einzelblock geformt, dessen Schnitt parallel zu der einen Fläche ein Polygon ist. Der Einzelblock enthält eine Eintrittsfläche, durch die ein Lichtstrahl in den dielektrischen Block eintritt, eine Austrittsfläche, durch die der Lichtstrahl aus dem dielektrischen Block austritt, und die eine Fläche, auf der die Dünnfilmschicht gebildet ist. Der dielektrische Block wird durch Spritzgießen gebildet unter Verwendung von zwei Formhälften, deren Paßflächen außerhalb von zwei Öffnungswinkeln des Polygons gelegen sind, die einander über die Mitte des Polygons hinweg gegenüberliegen.</p> |
