| 主权项 |
1.一种反射装置,备有全反射或半反射之反射面,视其断面时之上述反射面为微细之圆弧形状之凹曲线呈复数连接排列配置,邻接之前述凹曲面线间之间隔为不相同者。2.如申请专利范围第1项所述之反射装置,其中,以在于上述凹曲线之最底部之接线成垂直之线为中心线01时,上述凹曲线乃对于上述中心线01而成对称之形状地延伸之圆弧曲线者。3.如申请专利范围第1项所述之反射装置,其中,以在于上述凹曲线之最底部之接线成垂直之线为中心线01时,上述凹曲线乃挟着上述中心线01而一方之侧乃与另一方侧相比时较长地延伸者。4.如申请专利范围第1项所述之反射装置,其中,以在于上述凹曲线之最底部之接线成垂直之线为中心线01时,上述凹曲线乃对于上述中心线01而只延伸于一方之侧之圆弧曲线者。5.如申请专利范围第3项所述之反射装置,其中,该自上述中心线01而凹曲线之较长的延伸之侧,乃对于使用时之视线之方向而被朝向下侧者。6.如申请专利范围第1项所述之反射装置,其中上述凹曲线之节距为50m以下者。7.一种反射装置,备有全反射或半反射之反射面,视其断面时上前反射面为连续并列微细之圆弧形状之凹曲线的同时,当将连续之规定数之凹曲线为1组时,在上述1组内乃包含有不同节距之凹曲线,且以上述1组之凹曲组为1单位地反复形成为其特征者。8.如申请专利范围第7项所述之反射装置,其中1组之凹曲线之宽度尺寸为120m以上者。9.如申请专利范围第1项所述之反射装置,其中该断面呈凹曲线之凹面乃条纹状地朝向与上述断面成交叉之方向延伸者。10.如申请专利范围第1项所述之反射装置,其中该断面呈凹曲线之凹面乃条纹状地朝向与上述断面成交叉之方向形成,且上述反射面平面视时,上述凹面之条纹乃曲线状地延伸者。11.如申请专利范围第9项所述之反射装置,其中在上述条纹状地延伸之凹面上,隔着间隔状地形成有横断上述条纹之沟者。12.如申请专利范围第10项所述之反射装置,其中上述沟之断面形状乃与上述凹曲线相似形者。13.如申请专利范围第1项所述之反射装置,其中上述薄片表面之断面乃凹曲线并排而成之形状,而在此薄片表面以反射金属膜成膜由而形成上述反射面者。14.一种显示装置,备有全反射或半反射之反射面,视其断面时之上述反射面为微细之圆弧形状之凹曲线呈复数连接排列配置,邻接之前述凹曲面线间之间隔为不相同之反射装置,在于显示体单元之显示面侧与相反侧之外面,将该反射面朝向显示体单元侧之状态地设置之反射装置而构成为其特征者。15.一种显示装置,备有全反射或半反射之反射面,视其断面时之上述反射面为微细之圆弧形状之凹曲线呈复数连接排列配置,邻接之前述凹曲面线间之间隔为不相同之反射装置,在于显示体之内部中,将反射面朝向显示面侧状态地设置申请专利范围第1项所述之反射装置而构成为其特征者。16.如申请专利范围第15项所述之显示装置,其中相邻接之凹曲线之境界部与凹曲线之底部之间之高度尺寸乃,显示单元之间隙尺寸之1/5以下者。17.如申请专利范围第15项所述之显示装置,设凹曲线之接线与显示单元之显示面所形成之角度为,此角度之最大绝对値为n,对于显示面之垂线之显示单元之有效视野角为t时,上述n乃为t之大约1/2者。18.一种反射装置之制造方法,主要系在于制造并用于显示单元之光学装置之方法中,其特征为,具有:加工表面具有微细之凹凸之光学面以资形成原板之过程;及在上述原板之光学面上,形成金属膜,剥离该金属膜而形成复制品之过程;及将此复制品之表面形状转印于基板,而在上述基板表面形成与上述原板之光学面相同之凹凸之过程;以及在上述基板之凹凸面形成反射金属膜之过程而构成者。19.如申请专利范围第18项所述之反射装置之制造方法,其中将上述复制品附着于辊表面,而一面将辊加工至规定之温度之下,将上述复制品滚动于基板表面,以资在基板表面转印凹凸面者。20.如申请专利范围第18项所述之反射装置之制造方法,其中在原板上同心圆状地加工微细的沟,以资形成具有凹凸之光学面,而在复制品上形成同心圆状之凹凸面,而在基板之表面转印同心圆形状之凹凸面,由而形成反射面者。21.如申请专利范围第18项所述之反射装置之制造方法,其中上述加工于原板之凹凸面及转印于基板表面之反射面之断面乃,微细之凹曲线所并排而成之形状者。22.如申请专利范围第21项所述之反射装置之制造方法,其中当将连续之规定数之凹曲线为1组时,在上述1组内乃包含有节距不同之凹曲线,且以上述1组之凹曲线为1单位地反复形成者。图式简单说明:第1图系表示本发明之反射装置之反射面之断面形状之放大断面图。第2图系表示图1所示之反射面之接线之倾斜角之频度,及在平坦之镜面及白纸接线之角度之频度之关系之线图。第3图系表示令凹曲线之节距不相同状态之反射面之放大断面图。第4图系表示凹曲线之曲率半径与凹曲线之接线之角度,凹凸之高度尺寸之关系之说明图。第5A,5B图乃表示显示单元与反射装置之实装关系之放大断面图。第6A,6B图系反射装置之平面图。第7图系表示反射装置之制造过程之说明图。第8图系表示本发明之反射装置之实施形态之斜视图。第9图系表示本发明之反射装置之入射光与反射光之关系之说明图。第10图系表示本发明之反射装置之其他实施形态之放大断面图。第11图系表示本发明之反射装置之其他实施形态之斜视图。 |
