发明名称 具机械缓冲层之积层陶瓷电容器
摘要 本创作之具机械缓冲层之积层陶瓷电容器,系包含一由陶瓷层与内部电极交叉堆叠之堆叠体及两分别位于堆叠体之两端部之外部电极,而外部电极具电极层、高延展性之机械缓冲层、保护层与导接层,致使电容器对于瞬间破坏性机械应力及长时间之外部机械应力具有较佳的抵抗性。
申请公布号 TW532548 申请公布日期 2003.05.11
申请号 TW091204300 申请日期 2002.04.03
申请人 禾伸堂企业股份有限公司 发明人 唐锦荣
分类号 H01G4/30 主分类号 H01G4/30
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路三段二四八号七楼;陈文郎 台北市松山区南京东路三段二四八号七楼
主权项 1.一种具机械缓冲层之积层陶瓷电容器,包含:一堆叠体,系包含交叉堆叠的至少三陶瓷层与至少二内部电极;及两外部电极,系分别位于该堆叠体之两端部,而各该外部电极具有:一电极层,系位于对应堆叠体之端部上;一机械缓冲层,系位于该电极层上并具高延展性与导电性;一保护层,系位于该机械缓冲层上并用以保护该电极层;及一导接层,系位于该保护层上并适时与一电子元件导接;藉此,当该外部电极受外力施压时,该机械缓冲层可有效分散机械应力,以有效预防该电容器之损毁。2.如申请专利范围第1项所述之具机械缓冲层之积层陶瓷电容器,其中,该电极层系一银层。3.如申请专利范围第1项所述之具机械缓冲层之积层陶瓷电容器,其中,该保护层系一镍层。4.如申请专利范围第1项所述之具机械缓冲层之积层陶瓷电容器,其中,该导接层系一焊锡层。5.如申请专利范围第1项所述之具机械缓冲层之积层陶瓷电容器,其中,该机械缓冲层系金属导体与有机黏着剂之复合材料。6.如申请专利范围第5项所述之具机械缓冲层之积层陶瓷电容器,其中,该金属导体系银。7.如申请专利范围第1项所述之具机械缓冲层之积层陶瓷电容器,其中,该机械缓冲层之厚度范围系50微米至500微米。8.如申请专利范围第1项所述之具机械缓冲层之积层陶瓷电容器,其中,该机械缓冲层之延展性约1~3%。图式简单说明:第一图系一种习用积层陶瓷电容器之剖视侧视图。第二图系本创作之较佳实施例之剖视侧视图。第三图系电容器组装于一电路板之示意图。第四图系对第三图作应力测试之示意图。第五图系应力施加値与施加时间的图。第六图系本发明之一实施例之电容値与时间关系图,此电容器之外部电极厚度约150m。第七图系习用电容器之电容値与时间关系图,此电容器之外部电极厚度约150m。
地址 台北市内湖区环山路二段六十二号