一种曝光光罩板治具之改良结构

摘要

本创作系揭露一种曝光光罩板治具之改良构造，该光罩板治具具有一承载部，该承载部系为该光罩板治具之周围部分。本创作之技术特征在于该光罩板治具之内部捞空，形成一容置空间，将一曝光区部，嵌设于该容置空间内，并利用若干黏接部与该承载部紧密接合，固定该曝光区部。然而，与知技术不同的是，该曝光区部为一透光率良好且材质坚硬之玻璃材质，形成一具透明玻璃曝光区之光罩板治具。在进行曝光吸真空后，光罩板治具更加紧压曝光区部，造成高贴合度，不会有电路图案偏差之可靠度问题

主权项

1.一种曝光光罩板治具之改良构造,其包括:一承载部,该承载部系为该曝光光罩板治具之周围部分,并设有一容置空间;一曝光区部,该曝光区部系设于该承载部之容置空间内。2.如申请专利范围第1项所述曝光光罩板治具之改良构造,其中所述之承载部系为一压克力材质。3.如申请专利范围第1项所述曝光光罩板治具之改良构造,其中所述之曝光区部为一玻璃材质。4.如申请专利范围第1项所述曝光光罩板治具之改良构造,其中所述之曝光区部系可利用若干黏接部与该承载部紧密接合。5.如申请专利范围第4项所述曝光光罩板治具之改良构造,其中所述之黏接部系为黏胶或银绒胶带等,可固定该曝光区部。6.如申请专利范围第1.2或3项所述曝光光罩板治具之改良构造,其中所述之容置空间系为一矩形浅槽。图式简单说明:图一A系习知微影技术中对基板进行图案定义之分解示意图。图一B系习知微影技术中基板载具之上视图。图一C系为习知微影技术中对基板进行图案定义之示意图。图二系本创作曝光光罩板治具之改良构造之实施例示意图。图三系以本创作中实施例之曝光光罩板治具进行图案定义之示意图。