发明名称 PROCEDE ET DISPOSITIF POUR UN TRAITEMENT ANODIQUE
摘要 L'invention concerne un procédé et un dispositif pour anodiser un composant.Le composant (P) est placé dans un récipient (1) présentant un orifice d'amenée (21a), un orifice de drainage (21b) et un passage d'amenée. Le passage d'amenée est orienté vers une surface du composant à anodiser. Un milieu de réaction est fourni de l'orifice d'amenée à l'orifice de drainage. Un courant électrique est fourni par une électrode réalisée au côté de l'orifice de drainage de la surface. L'appareil empêche qu'un gaz d'hydrogène créé par l'électrode recircule sur la surface du composant.L'invention est applicable notamment dans le domaine du traitement de surfaces de pièces métalliques.
申请公布号 FR2831894(A1) 申请公布日期 2003.05.09
申请号 FR20020013705 申请日期 2002.10.31
申请人 HITACHI UNISIA AUTOMOTIVE, LTD 发明人 SASAKI MASATO;ISHIKAWA MASAZUMI;SUGITA SACHIKO
分类号 C25D11/00;C25D11/02;C25D11/04;C25D17/00;(IPC1-7):C25D11/02 主分类号 C25D11/00
代理机构 代理人
主权项
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