发明名称 | 微阵列浮雕积分器件 | ||
摘要 | 一种适用于深度光刻设备照明系统的微阵列浮雕积分器件微阵列,其两个面均为正六边形的浮雕结构,且两个面上的浮雕图形是通过深度光刻加工而成,它对深度光刻机掩模和硅片间的衍射效应起到很好的平滑作用,同时对照明系统的光进行微分和积分,使达到掩模和硅片面的光能分布得到很高的均匀性,从而提高光刻分辨力;与光栏相配合使用,能改变深度光刻系统的聚光角,更好的起到平滑衍射效应的作用,从而增大线条的高宽比,提高了线条的质量。本实用新型兼有目前几种光学积分器件的优点,同时也克服了其缺点和不足,大大降低了其加工和装配难度,使掩模和硅片上的能量分布是各向同性分布的。 | ||
申请公布号 | CN2549478Y | 申请公布日期 | 2003.05.07 |
申请号 | CN02237662.3 | 申请日期 | 2002.06.24 |
申请人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明人 | 余国彬;姚汉民;胡松 |
分类号 | G02B3/08;G02B1/04;G03F7/00 | 主分类号 | G02B3/08 |
代理机构 | 北京科迪生专利代理有限责任公司 | 代理人 | 刘秀娟 |
主权项 | 1、一种适用于深度光刻设备照明系统的微阵列浮雕积分器件,其特征在于:积分器件的两个面均为正六边形的浮雕结构,且两个面上的浮雕图形是通过深度光刻加工而成。 | ||
地址 | 610209四川省成都市双流350信箱 |