发明名称 微阵列浮雕积分器件
摘要 一种适用于深度光刻设备照明系统的微阵列浮雕积分器件微阵列,其两个面均为正六边形的浮雕结构,且两个面上的浮雕图形是通过深度光刻加工而成,它对深度光刻机掩模和硅片间的衍射效应起到很好的平滑作用,同时对照明系统的光进行微分和积分,使达到掩模和硅片面的光能分布得到很高的均匀性,从而提高光刻分辨力;与光栏相配合使用,能改变深度光刻系统的聚光角,更好的起到平滑衍射效应的作用,从而增大线条的高宽比,提高了线条的质量。本实用新型兼有目前几种光学积分器件的优点,同时也克服了其缺点和不足,大大降低了其加工和装配难度,使掩模和硅片上的能量分布是各向同性分布的。
申请公布号 CN2549478Y 申请公布日期 2003.05.07
申请号 CN02237662.3 申请日期 2002.06.24
申请人 中国科学院光电技术研究所 发明人 余国彬;姚汉民;胡松
分类号 G02B3/08;G02B1/04;G03F7/00 主分类号 G02B3/08
代理机构 北京科迪生专利代理有限责任公司 代理人 刘秀娟
主权项 1、一种适用于深度光刻设备照明系统的微阵列浮雕积分器件,其特征在于:积分器件的两个面均为正六边形的浮雕结构,且两个面上的浮雕图形是通过深度光刻加工而成。
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