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发明名称 PLASMA PROCESSING METHOD
摘要
申请公布号 EP1100119(A4) 申请公布日期 2003.05.07
申请号 EP19990957662 申请日期 1999.06.28
申请人 TOKYO ELECTRON LIMITED 发明人 AMANO, HIDEAKI
分类号 C23C16/50;C23C16/40;C23C16/511;C23F4/00;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/31;H01L21/311;H01L21/312;H01L21/314;H01L21/316;H01L21/318;H01L21/3213;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/31;H01L21/321 主分类号 C23C16/50
代理机构 代理人
主权项
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