PLASMA FOCUS LIGHT SOURCE WITH ACTIVE AND BUFFER GAS CONTROL,申请号EP20010946210-传众专利搜索

发明名称	PLASMA FOCUS LIGHT SOURCE WITH ACTIVE AND BUFFER GAS CONTROL
摘要
申请公布号	EP1305813(A1)	申请公布日期	2003.05.02
申请号	EP20010946210	申请日期	2001.06.07
申请人	CYMER, INC.	发明人	BIRX, DANIEL, L. DI;MELNYCHUK, STEPHAN, T.;PARTLO, WILLIAM, N.;FOMENKOV, IGOR, V.;NESS, RICHARD, M.;SANDSTROM, RICHARD, L.;RAUCH, JOHN, E.
分类号	G21K1/00;H01J35/20;G03F7/20;G21K1/06;G21K5/00;G21K5/02;G21K5/08;H01L21/027;H05G2/00;H05H1/06;H05H1/24;(IPC1-7):H01J35/20	主分类号	G21K1/00
代理机构		代理人
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