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<p>Ein optisches Element (1) mit einer optischen Achse (3), insbesondere für ein Belichtungsobjektiv in der Halbleiter-Lithographie, weist wenigstens einen Fortsatz (2,2') in Richtung der optischen Achse (3) auf. Eine Vorrichtung (11) dient zum Einleiten einer zwei- oder mehrwelligen Deformation in das optische Element (1). Dabei ist wenigstens eine Einrichtung (12) zum Einbringen einer Kraft in den Fortsatz (2,2') im Bereich des Fortsatzes (2,2') angeordnet.</p> |
