Fotomaske zur Fokusüberwachung, Verfahren zur Fokusüberwachung, Einheit zur Fokusüberwachung und Herstellungsverfahren für eine derartige Einheit

摘要

Eine Fotomaske (5) zur Fokusüberwachung gemäß der Erfindung enthält ein Substrat (5a), durch das ein Belichtungslicht hindurchtreten kann, und eine Einheitsmaskenstruktur (Q) zur Fokusüberwachung. Die Einheitsmaskenstruktur (Q) zur Fokusüberwachung hat zwei Muster (5b¶1¶) und (5b¶2¶), die auf der Oberfläche des Substrates (5a) gebildet sind und einen lichtblockierenden Film (5c), der ein Rückseitenmuster (5d) aufweist, das auf der Rückseite des Substrates (5a) gebildet ist, um die Einfallsrichtungen des Belichtungslichtes, das in den zwei Mustern (5b¶1¶) und (5b¶2¶) zur Positionsmessung verläuft, im wesentlichen zu differenzieren. Wenn die Abmessung des Rückseitenmusters (5d) gleich L ist und die Wellenlänge des Belichtungslichtes gleich lambda, dann ist L/lambda gleich 10 oder größer.