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发明名称 Photoresistzusammensetzung
摘要
申请公布号 DE69812475(D1) 申请公布日期 2003.04.30
申请号 DE1998612475 申请日期 1998.05.22
申请人 SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD. 发明人 YAKO, YUKO;TAKAHASHI, KENJI;TAKAGAKI, HIROSHI;FUKUI, NOBUHITO
分类号 G03F7/004;G03F7/039;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/004 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
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