Verfahren zur Plasmabehandlung und Apparat dafür,申请号DE19976019854-传众专利搜索

发明名称	Verfahren zur Plasmabehandlung und Apparat dafür
摘要
申请公布号	DE69719854(D1)	申请公布日期	2003.04.24
申请号	DE19976019854	申请日期	1997.05.23
申请人	SEKISUI CHEMICAL CO., LTD.	发明人	YUASA, MOTOKAZU;YARA, TAKUYA
分类号	H01J37/32;(IPC1-7):H01J37/32	主分类号	H01J37/32
代理机构		代理人
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