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经营范围
发明名称
Lithographisches System und Verfahren mit einem vergrössertem Maskenbild
摘要
申请公布号
DE69622640(T2)
申请公布日期
2003.04.24
申请号
DE19966022640T
申请日期
1996.05.09
申请人
GOODRICH CORP., CHARLOTTE
发明人
MCKINLEY, WILLIAM G;TATIAN, BERGE;PERRON, GERARD M
分类号
G03F7/20;H01J9/02;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/20
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
主权项
地址
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