| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Massstabes in Form eines Phasengitters und den Massstab selbst, sowie eine Positionsmesseinrichtung mit diesem Massstab, der zwei voneinander beabstandete Reflexionsschichten (2, 4) aufweist, die zu beiden Seiten einer Abstandsschicht (3) angeordnet sind. Die Herstellung des Massstabes umfasst folgende Verfahrensschritte: zur Verfügung stellen einer ersten Reflexionsschicht (2) als eine ganzflächig durchgehende Schicht, die eine Beziehung A = R/η ≥ 3 erfüllt, wobei R der Reflexionsgrad und η der Rückstreukoeffizient für Elektronen ist, Aufbringen der Abstandsschicht (3) auf die erste Reflexionsschicht (2), Aufbringen der zweiten Reflexionsschicht (4) auf die Abstandsschicht (3), Strukturieren der zweiten Reflexionsschicht (4) durch einen Elektronenstrahllithografieprozess.</p> |
