| 发明名称 | 化学放大型正性光刻胶组合物 | ||
| 摘要 | 本发明提供了能够在保持高分辨率的同时获得高感光性的化学放大型正性光刻胶组合物，包括(A)下式(I)的化合物：其中，R<SUP>1</SUP>表示任选具有含氧原子或氮原子的取代基或任选被卤素原子取代的烃基；(B)本身在碱水溶液中不溶或溶解性低但通过酸的作用而变成在碱水溶液中可溶的树脂；和(C)季铵盐。 | ||
| 申请公布号 | CN1412619A | 申请公布日期 | 2003.04.23 |
| 申请号 | CN02145886.3 | 申请日期 | 2002.10.16 |
| 申请人 | 住友化学工业株式会社 | 发明人 | 中西润次;难波克彦 |
| 分类号 | G03F7/004;G03F7/039 | 主分类号 | G03F7/004 |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 陈长会 |
| 主权项 | 1、化学放大型正性光刻胶组合物，包括：(A)下式(I)的化合物：<img file="A0214588600021.GIF" wi="1111" he="397" />其中，R<sup>1</sup>表示任选地具有含氧原子或氮原子的取代基或任选地被卤素原子取代的烃基；(B)本身在碱水溶液中不溶或溶解性低但通过酸的作用而变成在碱水溶液中可溶的树脂；和(C)季铵盐。 | ||
| 地址 | 日本国大阪府 | ||