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发明名称 EFFECTIVE ISOLATION WITH HIGH ASPECT RATIO SHALLOW TRENCH ISOLATION AND OXYGEN OR FIELD IMPLANT
摘要
申请公布号 SG95666(A1) 申请公布日期 2003.04.23
申请号 SG20010004418 申请日期 2001.07.20
申请人 CHARTERED SEMICONDUCTOR MANUFACTURING, INC. 发明人 CHA CHER LIANG;ONG KOK KENG;ALEX SEE;LAP CHAN
分类号 H01L21/762;(IPC1-7):H01L 主分类号 H01L21/762
代理机构 代理人
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