用于真空镀膜工艺的光束共蒸发专用装置

摘要

本实用新型涉及用于真空镀膜工艺的光束共蒸发专用装置。该装置包括：光源；其特征在于：还包括一凹面镜、凸透镜；其中光源放在一凹面镜、凸透镜之间，并处在凹面镜的焦点上；凸透镜的焦点在靶面上；光源和凹面镜放在凸透镜的2倍焦距之外，该聚焦系统安装在真空室外；光束通过真空室的观察窗入射到真空室内的靶面上。真空室内安装有几个靶，就可以安装有几个聚焦系统。光源输出光经过凹面镜和凸透镜组成的聚焦系统，把光束聚焦在靶面上，使得靶表面的温度易于达到靶材的升华点。采用该装置制备的厚膜超导性能优良、质地均匀、致密、适合工业化应用。

主权项

1.一种用于真空镀膜工艺的光束共蒸发专用装置，包括：光源；其特征在于：还包括一凹面镜、凸透镜；其中光源放在一凹面镜、凸透镜之间，并处在凹面镜的焦点上；凸透镜的焦点在靶面上；光源和凹面镜放在凸透镜的2倍焦距之外，该聚光装置安装在真空室外；光束通过真空室的观察窗入射到真空室内的靶面上。