| 主权项 |
1.一种应用关键尺寸估计产能的制程控制方法,适用于一晶圆制程,该晶圆制程使用一光罩以及一曝光机,该应用关键尺寸估计产能的制程控制方法包括下列步骤:决定一关键尺寸値,并根据该关键尺寸値进行该晶圆制程,而决定对应于该晶圆制程之一产能値;将对应于该晶圆制程之该产能値代入一产能模型,并应用统计方法,以根据该产能模型决定对应于该光罩之一光罩误差値、以及对应于该晶圆制程与该曝光机之一工具误差比;以及当进行该晶圆制程时,根据该产能模型、该光罩误差値以及该工具误差比而决定该晶圆制程之预估产能値。2.如申请专利范围第1项所述之应用关键尺寸估计产能的制程控制方法,其中该产能模型系以下列公式表示:Erun=(EB/R+EReticle)Toffset+C其中Erun系该产能値,EReticle系该光罩误差値,Toffset系该工具误差比,EB/R系一基本记录値,C系一修正値,且EB/R与C系常数。3.如申请专利范围第1项所述之应用关键尺寸估计产能的制程控制方法,其中该统计方法包括变异数分析(ANOVA)。4.如申请专利范围第1项所述之应用关键尺寸估计产能的制程控制方法,其中该统计方法包括实验设计(DOE)。5.如申请专利范围第1项所述之应用关键尺寸估计产能的制程控制方法,其中该统计方法包括平均误差演算法(EM Algorithm)。6.如申请专利范围第1项所述之应用关键尺寸估计产能的制程控制方法,其中该曝光机系一步进曝光机(Stepper)。7.一种应用关键尺寸估计产能的制程控制方法,适用于一晶圆制程,该应用关键尺寸估计产能的制程控制方法包括下列步骤:提供一光罩以及一步进曝光机,用以进行该晶圆制程;决定一关键尺寸値,并根据该关键尺寸値进行该晶圆制程,而决定对应于该晶圆制程之一产能値;将对应于该晶圆制程之该产能値代入一产能模型,并应用统计方法,以根据该产能模型决定对应于该光罩之一光罩误差値、以及对应于该晶圆制程与该曝光机之一工具误差比;以及当进行该晶圆制程时,根据该产能模型、该光罩误差値以及该工具误差比而决定该晶圆制程之预估产能値;其中,该产能模型系:Erun=(EB/R+EReticle)Toffset+C其中Erun系该产能値,EReticle系该光罩误差値,Toffset系该工具误差比,EB/R系一基本记录値,C系一修正値,且EB/R与C系常数。8.如申请专利范围第7项所述之应用关键尺寸估计产能的制程控制方法,其中该统计方法包括变异数分析(ANOVA)。9.如申请专利范围第7项所述之应用关键尺寸估计产能的制程控制方法,其中该统计方法包括实验设计(DOE)。10.如申请专利范围第7项所述之应用关键尺寸估计产能的制程控制方法,其中该统计方法包括平均误差演算法(EM Algorithm)。图式简单说明:第1图系显示习知IC制程控制的流程图。第2图系显示晶圆制程中影响关键尺寸之因素的示意图。第3图系显示本发明之制程控制的流程图。第4图系显示应用本发明之制程控制方法估计产能的流程图。 |
