| 主权项 |
1.一种具有高品质因数之回旋状电感的制造方法,包括下列步骤:提供一基底,并在该基底上形成一介电层;于该介电层中,形成一回旋状的第一凹槽;填入第一金属于该第一凹槽内以形成第一金属层,用以当作电感线圈;于回旋状的该第一凹槽的中心部分,形成一既定形状之第二凹槽于该介电层中;填入第二金属于该第二凹槽内以形成第二金属层,用以当作电感核芯;以及对该介电层表面进行一化学机械研磨处理。2.如申请专利范围第1项所述之具有高品质因数之回旋状电感的制造方法,更包括下列步骤:于回旋状的该第一凹槽的外围部分,形成一既定形状之第三凹槽于该介电层中;以及填入第三金属于该第三凹槽内以形成第三金属层,用以当作干扰遮蔽屏障。3.如申请专利范围第1项所述之具有高品质因数之回旋状电感的制造方法,其中该第一金属层系沉积高导电性金属材料,包括铜、铝、钛、金、银或铝铜合金。4.如申请专利范围第1项所述之具有高品质因数之回旋状电感的制造方法,其中该第二金属层系沉积铁磁性材料,包括铝镍钴合金、透磁合金。5.如申请专利范围第2项所述之具有高品质因数之回旋状电感的制造方法,其中该第三金属层系沉积铁磁性材料,包括铝镍钴合金、透磁合金。6.一种具有高品质因数之回旋状电感,其构造包括:一基底,该基底上具有一介电层;一回旋状的第一凹槽,形成于该介电层中;一第一金属层,形成于该回旋状的第一凹槽内;一第二凹槽,形成于该回旋状的第一凹槽中心部分的该介电层中;以及一第二金属层,形成于该第二凹槽内。7.如申请专利范围第6项所述之具有高品质因数之回旋状电感,更包括下列构造:一第三凹槽,形成于该第一凹槽外围部分的该介电层中;以及一第三金属层,形成于该第三凹槽内。8.如申请专利范围第6项所述之具有高品质因数之回旋状电感,其中该第一金属层系高导电性金属材料,包括铜、铝、钛、金、银或铝铜合金。9.如申请专利范围第6项所述之具有高品质因数之回旋状电感,其中该第二金属层系铁磁性材料,包括铝镍钴合金、透磁合金。10.如申请专利范围第7项所述之具有高品质因数之回旋状电感,其中该第三金属层系铁磁性材料,包括铝镍钴合金、透磁合金。11.一种具有高品质因数之回旋状电感的制造方法,包括下列步骤:提供一基底,并在该基底上形成一介电层;于该介电层中,形成一回旋状的第一凹槽;填入导电性金属材料于该第一凹槽内以形成第一金属层,用以当作电感线圈;于回旋状的该第一凹槽的中心部分,形成一既定形状之第二凹槽于该介电层中,其中该第二凹槽的深度大于该第一凹槽的深度;填入铁磁性材料于该第二凹槽内以形成第二金属层,用以当作电感核芯;于回旋状的该第一凹槽的外围部分,形成一既定形状之第三凹槽于该介电层中;以及填入铁磁性材料于该第三凹槽内以形成第三金属层,用以当作干扰遮蔽屏障,其中该第三金属层系连续状或不连续状。12.一种具有高品质因数之回旋状电感,其构造包括:一基底,该基底上具有一介电层;一回旋状的第一凹槽,形成于该介电层中;一第一金属层,形成于该回旋状的第一凹槽内;一第二凹槽,形成于该回旋状的第一凹槽中心部分的该介电层中,其中该第二凹槽的深度大于该第一凹槽的深度;一第二金属层,形成于该第二凹槽内;一第三凹槽,形成于该第一凹槽外围部分的该介电层中;以及一第三金属层,形成于该第三凹槽内,其中该第三金属层系连续状或不连续状。图式简单说明:第1图系绘示本发明之回旋状电感的结构剖面图。第2图至第4图系绘示根据本发明较佳实施例之回旋状电感的上视示意图。 |
