发明名称 光罩修补方法
摘要 一种光罩修补方法,系使用原有光罩修补机台中的蚀刻步骤,利用破坏光罩石英基材,亦除去原有基材的透光特性,如此可使原光罩图案中不正常的透光区域,转变为不透光区域。此利用蚀刻之光罩修补方法系使用在较为精细的光罩图案中,可较一般利用沈积来修补光罩图案的方法容易控制,且不会有造成光罩其他原本未受损部分遭到破坏,或修补区剥落的缺点。
申请公布号 TW529079 申请公布日期 2003.04.21
申请号 TW090125142 申请日期 2001.10.11
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 陈宪廷;林孜颖;黄文荣
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人 蔡坤财 台北市中山区松江路一四八号十二楼
主权项 1.一种光罩修补方法,系用来修补具有一第一不透光区与一第一透光区之一光罩,该光罩之该第一透光区系由一玻璃材质所构成,而该光罩修补方法至少包括:提供该光罩,其中该光罩系具有因该第一不透光区受损而暴露出之一第二透光区;利用一蚀刻步骤以去除一部分位于该第二透光区之该玻璃材质,藉以形成一修补区域,并使该第二透光区形成一第二不透光区。2.如申请专利范围第1项所述之光罩修补方法,其中上述之修补区域之宽度系为该第二透光区之宽度的1/2至2/3。3.如申请专利范围第2项所述之光罩修补方法,其中上述之第二不透光区之面积系等于该第二透光区之面积。4.如申请专利范围第1项所述之光罩修补方法,其中上述之玻璃材质系为石英。5.如申请专利范围第1项所述之光罩修补方法,其中上述之第一不透光区系由铬(Cr)所构成。6.如申请专利范围第1项所述之光罩修补方法,其中上述之第一不透光区系由氧化铬(CrO)所构成。7.如申请专利范围第1项所述之光罩修补方法,其中上述之蚀刻步骤系利用一聚焦离子束之光罩修补机台。8.一种光罩修补方法,而该光罩修补方法至少包括:提供一光罩,其中该光罩系具有由一玻璃透光材质所构成之一主体,并在该主体上利用一遮光材质形成一第一不透光区,而该第一不透光区中更具有因该第一不透光区受损而暴露出的一透光区;利用一蚀刻步骤以蚀刻位于该透光区之部分之该玻璃透光材质,藉以形成一修补区域,可使该透光区形成一第二不透光区。9.如申请专利范围第8项所述之光罩修补方法,其中上述之修补区域之宽度系为该第二透光区之宽度的1/2至2/3。10.如申请专利范围第9项所述之光罩修补方法,其中上述之第二不透光区之面积系等于该透光区之面积。11.如申请专利范围第8项所述之光罩修补方法,其中上述之玻璃透光材质系为石英。12.如申请专利范围第8项所述之光罩修补方法,其中上述之第一不透光区系由铬(Cr)所构成。13.如申请专利范围第8项所述之光罩修补方法,其中上述之第一不透光区系由氧化铬(CrO)所构成。14.如申请专利范围第8项所述之光罩修补方法,其中上述之蚀刻步骤系利用一聚焦离子束之光罩修补机台。图式简单说明:第1图所绘示为一般光罩之示意图;第2图所绘示为一般光罩受损之示意图;第3图所绘示为利用习知光罩修补方法修补光罩之示意图;以及第4图所绘示为利用本发明光罩修补方法修补光罩之示意图。
地址 新竹市新竹科学工业园区园区三路一二一号