发明名称 同时具备抗污及抗菌功能的高温釉药及其制法
摘要 一种可在高温烧成后可同时具备抗污及抗菌功能的釉面之陶瓷釉药。该釉药含有的各种化学成份及其组成比例是SiO2 40wt%至65wt%,Al2O3 9wt%至15wt%,CaO10wt%至15wt%,ZnO 4wt%至8wt%'Na2O 2wt%至5wt%,K2O 2wt%至5wt%,TiO2 0.5wt%至2.5wt%,Ag2O0.1wt%至1.8wt%。该釉药浆料的原料粒度分布要求为颗粒直径小于0.5μm者之累积重量百分比项被控制在50wt%以上。而且该釉药在以一般陶业施布的方法喷覆在陶瓷生胚后,可在950℃至1300℃高温下与胚体同时一次烧成,烧成后的釉面可同时具备抗污及抗菌的功能。
申请公布号 TW528741 申请公布日期 2003.04.21
申请号 TW090100893 申请日期 2001.01.16
申请人 和成欣业股份有限公司 发明人 陈世杰;廖富源;杜国龙;陈俊贤
分类号 C04B41/86 主分类号 C04B41/86
代理机构 代理人
主权项 1.一种同时具备抗污及抗菌功能的高温陶瓷釉药,其特征在于该釉药经调配后其原料中各种化学成分及其含量比例是SiO2(氧化矽)40wt%至65wt%,Al2O3(氧化铝)9wt%至15wt%,CaO(氧化钙)10wt%至15wt%,ZnO(氧化锌)4wt%至8wt%,Na2O(氧化钠)2wt%至5wt%,K2O(氧化钾)2wt%至5wt%,TiO2(二氧化钛)0.5wt%至2.5wt%,Ag2O(氧化银)0.1wt%至1.8wt%,原料之粒度分布是颗粒直径小于0.5m者之累积重量百分比被控制在50wt%以上。2.一种同时具备抗污及抗菌功能的陶瓷釉面的制法,其特征是它是按一般陶瓷业的涂布方式将申请专利范围第1项所述之陶瓷釉药喷覆于陶瓷胚体上,在950℃至1300℃间高温一次烧成,可使陶瓷产品釉层表面同时具有抗污及抗菌功能。3.一种如申请专利范围第2项所述的制法所制成的同时具备抗污及抗菌功能的陶瓷釉面,釉面的表面平均粗糙度Ra在0.05m至0.20m。图式简单说明:第1图、一般陶瓷釉药喷施在胚体上之情形。第2图、已喷施釉药的陶瓷胚体在高温烧成后,釉层中气泡留存之情形。第3图、一般陶瓷釉药之粉体粒度分布曲线。第4图、抗污、抗菌釉药之粉体粒度分布曲线。第5图、抗污、抗菌釉药喷施在已施釉药胚体上之情形。第6图、喷施一般釉药的陶瓷,高温烧成后釉面之原子力显微镜检验结果。第7图、抗污、抗菌釉药的调制流程。第8图、喷施抗污、抗菌釉药的陶瓷,高温烧成后釉面之原子力显微镜检验结果。第9图、铅笔刮痕试验结果。第10图、马桶釉面冲洗试验。第11图、釉面抗菌能力试验---小便斗中花实地试验。第12图、抗菌试验之抗菌力评定方法简易示意图,及其计算式。
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