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发明名称 Bottom anti-reflective coating material composition for photoresist and method of forming resist pattern
摘要
申请公布号 EP0989463(B1) 申请公布日期 2003.04.16
申请号 EP19990118047 申请日期 1999.09.22
申请人 FUJI PHOTO FILM CO., LTD. 发明人 MIZUTANI, KAZUYOSHI;MOMOTA, MAKOTO
分类号 H01L21/027;G03F7/004;G03F7/029;G03F7/038;G03F7/09;(IPC1-7):G03F7/09 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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