| 发明名称 | 一种化学机械研磨浆料组成 | ||
| 摘要 | 一种化学机械研磨浆料组成。包含有一研磨粒成分金属氧化物、预定浓度的溶解态臭氧及添加剂，浆料组成的pH值介于1－10之间。通过臭氧作为CMP研磨浆料的氧化剂，具有较佳的氧化力，且可避免传统氧化剂易污染芯片表面或改变浆料pH值，具有较佳的研磨效果。 | ||
| 申请公布号 | CN1410501A | 申请公布日期 | 2003.04.16 |
| 申请号 | CN02131650.3 | 申请日期 | 2002.09.12 |
| 申请人 | 联华电子股份有限公司 | 发明人 | 胡绍中;蔡腾群;许嘉麟 |
| 分类号 | C09K3/14 | 主分类号 | C09K3/14 |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 刘朝华 |
| 主权项 | 1、一种化学机械研磨浆料组成，其特征是：它包含有：氧化铝成分、预定浓度的溶解态臭氧及添加剂；该浆料组成的pH值介于1-10之间。 | ||
| 地址 | 台湾省新竹市 | ||