| 发明名称 | 微孔膜及其制备方法 | ||
| 摘要 | 一种制备微孔膜的方法，其包括：将一种聚合物在该聚合物熔点+10℃至聚合物熔点+100℃的温度下挤出；将挤出后的聚合物在10-150℃下以5-120米/分的速率拉伸制成聚合物膜；将该聚合物膜在聚合物熔点-100℃至聚合物熔点-5℃的温度下退火10秒至1小时；用能量为10<SUP>-2</SUP>～10<SUP>7</SUP>Kev的离子粒以10<SUP>2</SUP>～10<SUP>20</SUP>个离子/cm<SUP>2</SUP>的量、在真空度为10<SUP>-2</SUP>～10<SUP>-8</SUP>毫米汞柱下辐照聚合物膜的一个或两个表面，辐照距离为5～100cm；在-20℃至聚合物熔点-40℃的温度下对聚合物膜进行冷拉伸；在聚合物熔点-40℃至聚合物熔点-5℃的温度下对聚合物膜进行热拉伸；且在聚合物熔点-80℃至聚合物熔点-5℃的温度下对聚合物膜进行热定形；其中上述步骤的次序可相互调换。 | ||
| 申请公布号 | CN1105594C | 申请公布日期 | 2003.04.16 |
| 申请号 | CN98812632.X | 申请日期 | 1998.11.16 |
| 申请人 | LG化学株式会社 | 发明人 | 李相英;金明万;宋宪植 |
| 分类号 | B01D67/00;B01D69/00;B01D71/26 | 主分类号 | B01D67/00 |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 甘玲 |
| 主权项 | 1、一种制备微孔膜的方法，其包括如下步骤：(a)将一种聚合物在该聚合物熔点+10℃至聚合物熔点+100℃的温 度下挤出；(b)将挤出后的聚合物在10-150℃下以5-120米/分的速率拉伸而 制成聚合物膜；(c)将该聚合物膜在聚合物熔点-100℃至聚合物熔点-5℃的温度下 退火10秒至1小时；(d)用能量为10-2～107Kev的离子粒以102～1020个离子/cm2的量、 在真空度为10-2～10-8毫米汞柱下辐照聚合物膜的一个或两个 表面，辐照距离为5～100cm；(e)在-20℃至聚合物熔点-40℃的温度下对聚合物膜进行冷拉伸；(f)在聚合物熔点-40℃至聚合物熔点-5℃的温度下对聚合物膜进 行热拉伸；和(g)在聚合物熔点-80℃至聚合物熔点-5℃的温度下对聚合物膜进 行热定形；其中所述步骤(c)至(g)的次序可相互调换。 | ||
| 地址 | 韩国汉城 | ||