| 发明名称 |
Method of depositing cvd and ald films onto low-dielectric-constant dielectrics |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
AU2002340047(A1) |
申请公布日期 |
2003.04.14 |
| 申请号 |
AU20020340047 |
申请日期 |
2002.09.26 |
| 申请人 |
INTEL CORPORATION |
发明人 |
CHIH-I WU;JIHPERNG LEU;GRANT M. KLOSTER;YING ZHOU |
| 分类号 |
C23C16/02;H01L21/3205;H01L21/768;(IPC1-7):C23C16/40;C23C16/56 |
主分类号 |
C23C16/02 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
