| 主权项 |
1.一种制造一供液晶细胞中使用的校准层之方法,该方法包括下列步骤:提供一具有一含边缘部份之表面的基板;提供一离子束源,该离子束源会放射一离子束,并且位于离该表面之距离上;提供一罩幕层,该罩幕层位于该表面及该离子束源之间,并且具有一第一开口及一第二开口;移动该基板之相对于该离子束源的位置;通过该第一开口及该第二开口,将该表面曝光于该离子束源之下;以及其中该第一开口及该第二开口的形状能够增强该边缘部份中曝光表面的一致性。2.如申请专利范围第1项之方法,其中该曝光步骤进一步包括重新校准该基板之相对于该离子束源的位置。3.如申请专利范围第1项之方法,其中该离子束源包括一第一离子束源及一第二离子束源,并且会通过该第一开口将该表面曝光于该第一离子束源之下,以及通过该第二开口将该表面曝光于该第二离子束源之下。4.如申请专利范围第1项之方法,其中该第一开口及该第二开口对称,并且会将之定位以形成一镜射影像。5.如申请专利范围第1项之方法,其中该第一开口的一部份及该第二开口的一部份大体上相当于三角形。6.如申请专利范围第1项之方法,其中该第一开口的一部份及该第二开口的一部份都是由一滑顺曲线所组成。7.如申请专利范围第1项之方法,其中该第一开口的一部份及该第二开口的一部份大体上相当于正弦曲线。8.如申请专利范围第1项之方法,其中该第一开口的一部份及该第二开口的一部份大体上相当于高斯(Gaussian)曲线。9.一种制造一供液晶细胞中使用的校准层之装置,该装置包括:一支架,用以定位一具有一含边缘部份之表面的基板;一离子束源,该离子束源会放射一离子束,并且位于离该表面之距离上;一罩幕层,该罩幕层位于该表面及该离子束源之间,并且具有一第一开口及一第二开口;其中该第一开口及该第二开口的形状能够增强该边缘部份中曝光表面的一致性。10.如申请专利范围第9项之装置,其中该离子束源进一步包括一第一离子束源及一第二离子束源,并且该第一开口使该表面曝光于该第一离子束源之下,以及该第二开口使该表面曝光于该第二离子束源之下。11.如申请专利范围第9项之装置,其中该第一开口及该第二开口对称。12.如申请专利范围第9项之装置,其中该第一开口的一部份及该第二开口的一部份大体上相当于三角形。13.如申请专利范围第9项之装置,其中该第一开口的一部份及该第二开口的一部份都是由一滑顺曲线所组成。14.如申请专利范围第9项之装置,其中该第一开口的一部份及该第二开口的一部份大体上相当于正弦曲线。15.如申请专利范围第9项之装置,其中该第一开口的一部份及该第二开口的一部份大体上相当于高斯(Gaussian)曲线。图式简单说明:图1显示实施本发明之典型液晶显示细胞实例的原理断面图;图2a显示单离子源系统的侧面规划图;图2b显示图2a所示之单离子源系统的俯视规划图;图3a显示具有简易型线性串连之双离子源的侧面规划图;图3b显示图3a所示之双离子源系统的俯视规划图;图4a显示重叠型双离子源系统的侧面图;图4b显示图4a所示之重叠型双离子源系统的俯视规划图;图5a显示具有重叠串连之双离子源系统的侧面规划图;图5b显示图5a所示之双离子源系统的俯视规划图;图6显示以图5a及图5b所示之双离子源系统所准备之液晶显示细胞的图式;图7显示根据本发明之双离子源系统的俯视规划图,其中基板会从左向右移动;图8a显示以平行偏光器照射根据本发明所制造之液晶显示的图式;图8b显示以交叉的偏光器照射根据本发明所制造之液晶显示的图式;图9显示用以说明横跨根据本发明所制造之具有60mm(毫米)到100mm罩幕重叠部份与20mm间隔之液晶显示细胞的预倾斜(pretilt)角度相对于位置之图式;图10显示用以说明横跨图9所示之具有18度光束离散角度之液晶显示细胞的扭转角相对于位置的图式;以及图11显示用以说明当基板与罩幕间的间隔为5mm且光束离散角度为8度时所获得的扭转角之模拟图式。 |
