| 主权项 |
1.一种光罩组,其包含:一第一光罩,包含:一第一透明区域;以及一第一不透明区域,该第一不透明区域系邻接该第一透明区域而置;以及一第二光罩,包含:一第二透明区域,该第二透明区域具有一第一相位;一第二不透明区域,该第二不透明区域系邻接该第二透明区域而置;一第三透明区域,该第三透明区域具有一第二相位,该第三透明区域系邻接该第二不透明区域而置;以及一邻接该第二不透明区域而置的透明辅助形状特征。2.如申请专利范围第1项之光罩组,其中该第一相位与该第二相位具有180度的偏移。3.如申请专利范围第1项之光罩组,其中该第一相位为0度且该第二相位为180度。4.如申请专利范围第1项之光罩组,其中该透明辅助形状特征具有该第一相位。5.如申请专利范围第1项之光罩组,其中该透明辅助形状特征具有该第二相位。6.如申请专利范围第1项之光罩组,其中该第二透明区域系邻接该第三透明区域而置。7.如申请专利范围第1项之光罩组,其中该第一透明区域与该透明辅助形状特征曝光一层之一第一部分。8.如申请专利范围第1项之光罩组,其中该第二透明区域与该第三透明区域曝光一层之一第二部分。9.如申请专利范围第1项之光罩组,其中该透明辅助形状特征系由该第二不透明区域予以围绕。10.如申请专利范围第1项之光罩组,其中该透明辅助形状特征系与该第二透明区域合并。11.如申请专利范围第1项之光罩组,其中该透明辅助形状特征系与该第三透明区域合并。12.如申请专利范围第1项之光罩组,其中该辅助形状特征进一步包含光学近接校正(OPC)。13.一种光罩组,其包含:一含有一产品形状特征的双元光罩,该产品形状特征包含一窄间隔;以及一含有一辅助形状特征的相位推移光罩,该辅助形状特征在该相位推移光罩与该双元光罩对准时恰合于该窄间隔内。14.如申请专利范围第13项之光罩组,其中该辅助形状特征包含光学近接校正(OPC)。15.如申请专利范围第13项之光罩组,其中该相位推移光罩系一替换性孔径相位推移光罩。16.一种产生光罩资料之方法,其包含:提供设计资料及设计法则予一布局;将该设计资料转换成主要之形状特征予一组光罩图样;产生辅助形状特征予该等主要之形状特征;检查该等设计法则是否冲突;重复该转换及该产生直到该等设计法则不再冲突;验证该等光罩图样是否可予以组合以产生该布局;调整该等主要之形状特征及该等辅助形状特征直到产生该布局;以及取得该布局之最后光罩资料。17.如申请专利范围第16项之方法,其中该等光罩图样包含一双元光罩图样及一相位推移光罩图样。18.如申请专利范围第16项之方法,其中该光罩图样包含一双元光罩图样及一替换性孔径相位推移光罩图样。19.如申请专利范围第16项之方法,其中该验证包含模拟对该等主要形状特征之含括光阻涂敷、曝光和显影制程之微影蚀刻以及对该组光罩图样之该等主要形状特征。20.如申请专利范围第19项之方法,其中该验证进一步包含模拟对该等主要形状特征的蚀刻制程以及对该组光罩图样的该等辅助形状特征。21.如申请专利范围第16项之方法,其中该等辅助形状特征包含OPC。图式简单说明:图1描述一先前技艺中的相位推移光罩。图2描述一先前技艺中的双元光罩。图3描系一使用先前技艺中两光罩曝光后的晶圆。图4描述一使用一具有0度相位之辅助形状特征的相位推移光罩。图5描述一使用一具有180度相位之辅助形状特征的相位推移光罩。图6描述一使用一合并至邻近透明区域内具有180度相位之辅助形状特征的相位推移光罩。图7描述一使用一双元光罩曝光后的晶圆及一具有辅助形状特征的相位推移光罩。图8描述一流程图,用于产生一具有辅助形状特征的相位推移光罩和一双元光罩。 |
